Типоряд широкоапертурных источников ионов ИИК 120, ИИК 200
(интересные и до сих пор актуальные старые разработки)
Предназначен для следующих технологических операций:
1. ионно-лучевой очистки и активации поверхности;
2. формирования металлических и диэлектричес-ких слоев методом ионно- лучевого распыления;
3. формирования рельефа поверхности высотой в доли единиц - десятки микрометров в эпита-ксиальных гетероструктурах полупроводниковых и диэлектрических материалов;
4. формирования рельефа поверхности в толстых слоях полимерных материалов и удаления полимерных материалов с поверхности.
ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ
Оптика, микроэлектроника, спинтроника
ОТЛИЧИТЕЛЬНЫЕ ОСОБЕННОСТИ
Принцип работы основан на использовании двухкаскадного самостоятельного разряда низкого давления.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
|
ИИК 120
|
ИИК 200
|
|
|
Диаметр ионного пучка, мм
|
120
|
200
|
|
Плотность тока ионного пучка j, мА/см2
|
<1
|
<0,6
|
|
Извлекающее напряжение Uуск, кВ
|
0,2-4
|
0,2-4
|
|
Неравномерность плотности тока ионного пучка по сечению, % не более
|
5
|
5
|
|
Ток разряда Ip, А
|
0,3-0,8
|
0,4-1,2
|
|
Напряжение разряда Uр, В
|
240-360
|
300-380
|
|
Давление в области дрейфа ионного пучка при скорости откачки не менее 4 м3/с, Па, не более
|
2X10-2
|
3X10-2
|
|
Срок службы
|
неограничен
|
|
|
Срок непрерывной работы до проведения профилактических работ, ч, не менее
|
1000
|
|
|
Рабочие газы
|
Кислород, аргон, водород
|
|
ОПИСАНИЕ
Широкоапертурные источники ионов позволяют получать пучки ионов площадью десятки сантиметров квадратных с энергией до 4 килоэлектрон-вольт и с током ионного пучка сотни миллиампер.
Низкоэнергетический холловский источник ионов
Низкоэнергетический холловский источник ионов предназначен для ассистирования процессов ионно-лучевого осаждения металлических покрытий (омических контактов) в установке двойного ионно-лучевого осаждения-распыления и для ассистирования процессов нанесения многослойных оптических функциональных покрытий методом электронно-лучевого испаренияОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ
Оптика, микроэлектроника,спинтроника
ОТЛИЧИТЕЛЬНЫЕ ОСОБЕННОСТИ
разработан на базе Кауфмановского источника ионов холловского типа с открытым торцом.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
| Габаритные размеры |
D150х240 мм2
|
| Режим работы |
Стационарный
|
| Диаметр пучка |
до 100 мм
|
| Энергия ионов |
20-150 эВ
|
| Плотность ток пучка ионов |
до 5 мА/см2
|
| Давление в области дрейфа ионного пучка при скорости откачки не менее 1 м3/с |
не более 2х10-2 Па
|
| Рабочие газы |
Ar, О2, N2
|
ОПИСАНИЕ
позволяет получать широкие пучки ионов со средней энергией десятки-сотни электрон-вольт и с плотностью ионного тока – единицы миллиампер на квадратный сантиметр.
Плазменный модуль СВЧ для обработки поверхностей
Плазменный модуль СВЧ предназначени для финишной очистки электропроводящих и диэлектрических деталей сложной формы(режущих и резьбовых кромок в том числе); удаление загрязнений органической природы (следов масла, химических реактивов, отпечатков пальцев) на рабочей поверхности изделий, в том числе медицинского и научно-технического применения; финишная обработка стеклянных и керамических изделий; обработка оптически гладких поверхностей и участков.
ОБЛАСТЬ ПРИМЕНЕНИЯ
Оптика, микроэлектроника
ОПИСАНИЕ
Внутрь камеры СВЧ-печи помещена вакуумная ячейка с диэлектрическими стенками, давление в которой поддерживается на уровне 1 Тор. На рисунке 1 показан внешний вид предлагаемого варианта генератора СВЧ-плазмы вместе со схемой модифицированной конструкции газоразрядной камеры. Камера представляет собой реактор 1 внутренним диаметром 110 мм и длиной 140 мм, закрытый с торца фторопластовыми фланцами 2. Фланец 3 снабжен отверстиями для откачки вакуума и напуска рабочего газа. Образцы через крышку реактора 4 помещаются в центре на столике 5. Откачка из объема колбы производится форвакуумным насосом до давления ниже 0.06 Тор. Рабочий газ напускается до рабочего давления 0.5...0.8 Тор. Базовой моделью служит СВЧ-печь производства фирмы "Samsung" или "LG". Выходная мощность СВЧ-излучения со-ставляет 800 Вт на рабочей частоте 2.45 ГГц (магнетрон OM 75 S (31). На рисунке показано свечение плазмы при работе плазменного модуля СВЧ. Возбуждение СВЧ-разряда производится путем выбора режимов работы ручками стандартной па-нели управления. Задержка между срабатыванием СВЧ-магнетрона и моментом возбуждения объемного разряда не пре-вышает 3 с. После возбуждения СВЧ-разряда, нагрев кварцевой подставки происходит в основном путем теплопередачи от кварцевой колбы, а нагрев стенок СВЧ-печи является незначительным. Анализ теплового баланса показывает, что более 80% мощности СВЧ-излучения поглощается в плазме СВЧ-разряда. Стабильное и равномерное горение СВЧ-разряда на кислороде во всем диапазоне рабочих давлений является перспективным для травления органических материалов. Следы отпечатков пальцев удаляются с поверхности арсенид-галлиевых пластин O40 мм и кремниевых пластин O76 мм после 5...6 включений магнетрона длительностью 30 с каждое в течение 5 мин. Травление полиимида производится в дискретном режиме, с промежуточными остываниями до комнатной температуры (для исключения процесса графитизации) и со скоростью до 80 нм/мин при неравномерности менее 20% по пластине диаметром 100 мм.
По всем вопросам обращаться:
Корякин Сергей Владимирович Этот адрес электронной почты защищен от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра. т. +375 29 3164432
Макет газоразрядного источника ионов диаметром 420 мм
1 - полый катод (вакуумная камера установки УВН-75, Æ420 мм)
2, 3 - разрядные камеры двухкаскад-ногосамостоятельного разряда,
4 - эмиссионный электрод
5 - термокатод
6 - датчик давления
7 - переходная область
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
|
напряжение разряда |
320…360 В |
|
ток разряда |
0,4…0,6 А |
|
давление в полом катоде |
0,8…1,6×10-4Тор |
|
рабочее давление |
0,6…0,8×10-4Тор |
|
ускоряющее напряжение |
400 В |
|
ток эмиссионного электрода |
до 300 мА |
